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星钥半导体MicroLED首次亮相光博会
公告名称:
星钥半导体MicroLED首次亮相光博会
所属地区:
全国
发布时间:
2026-09-14
详细内容:

9 月 9 日,第 28 届中国国际光电博览会(CIOE)在深圳国际会展中心正式启幕。星钥半导体首次登陆光博会展台,集中展示从大尺寸硅基 GaN 外延、高精度混合键合到垂直堆叠单片全彩的全链条工艺晶圆实物,以及多波长可定制微显示屏、红绿双色堆叠样品、R/G/B+CMOS 垂直堆叠晶圆、MicroLED 光互连器件等系列研发成果。

星钥半导体指出,当前 MicroLED 产业的核心痛点集中于制造成本高企、产品交付能力不足,其根源在于现有工艺路线难以实现规模化落地,依托成熟半导体工艺是破解困局的核心解决方案。随着基于半导体工艺路线的量产产线全线打通出货,公司建成中国第一条真正意义上的 8 英寸 MicroLED IDM 产线,外延、芯片、键合全流程自主可控、无代工环节,标志着 MicroLED 产业化迈入全链路自主制造的全新阶段。

深圳,2026 年 9 月 10 日 ―― 伴随消费级 AR 硬件与 AI 算力产业快速发展,MicroLED 作为下一代微显示与高速互联的核心技术,受到行业高度关注。本届深圳光博会上,星钥半导体完成公司在 CIOE 展会的首次公开亮相。

四大技术平台构成 IDM 制造底座,展示全工艺段晶圆实物

本次展会,星钥半导体现场展出大尺寸硅基 GaN 外延晶圆、Chip on Wafer 加工晶圆、Hybrid Bonding 混合键合样片、垂直堆叠单片全彩中间工艺晶圆等多段关键工艺 Wafer 实物,完整还原从外延生长、晶圆加工、高精度混合键合再到垂直堆叠的整套工程链路。

在同期论坛报告中,星钥半导体系统阐述了实现高性能可量产 MicroLED 必须具备的四大技术平台

大尺寸硅基 GaN:与 CMOS 同为 Si 衬底,键合工艺匹配性好、良率更高,适配标准半导体产线,量产规模与成本优势显著;

高效率红光:三元红光(Si 衬底)像素微缩效应影响小、短波长光效更优,四元红光(GaAs 衬底)色纯度高、色域覆盖广、适配 X-cube 架构,两条路线优势互补;

高精度 Hybrid Bonding 混合键合:解决 CTE 失配、超高互连密度、热预算受限等异质集成挑战,支持室温预键合、超高密度互连、极低寄生参数;

异质堆叠集成:借鉴 CIS(感光 PD+DRAM+CMOS/ISP 垂直堆叠)成熟范式,实现 R/G/B+CMOS 垂直堆叠的单片全彩路径。

多元产品集中亮相,多波长定制、双色堆叠、单片全彩成果同步展出

在可定制多波长单色 Micro-LED 微显示屏方面,展台重点展出 490nm Tiffany 蓝、580nm 爱马仕橙等多款特色波长样品。不同于行业主流标准绿光方案,两款特殊波长器件针对不同客户需求做定向开发,开展现场演示之后,获得众多来访客户的重点关注与积极反馈。多波长灵活定制能力高度依托自研硅基 GaN 外延平台,通过调整量子阱组分,实现在较宽光谱区间内的波长调谐,摆脱对外购标准化外延片的依赖,更好匹配下游整机厂商差异化的光学系统设计需求。

展台同步展出基于混合键合技术的绿红双色堆叠样品。该产品通过垂直堆叠架构,实现红绿双发光层集成,不仅可以输出两种独立色彩,还能够实现显示屏输出波长动态可调,为 AR 设备提供介于单色与全彩之间的过渡级解决方案。在全彩大规模量产之前,双色堆叠方案可以丰富 AR 终端的色彩表现力,同时持续打磨堆叠、键合整套工艺,为后续单片全彩研发完成工艺练兵。

面向远期全彩目标,现场展出R/G/B+CMOS 垂直堆叠工艺晶圆。公司对外披露,基于该垂直堆叠路线开发的单片全彩样品,计划2027 年 3 月对外交付量产级样品,为行业提供可落地的全彩技术选项,同时,公司布局三元红光、四元红光两种红光方案,X-Cube合光与单片堆叠全彩两种全彩方案,以适配不同终端客户的差异化需求。

基于Micro LED技术的短距光互连,

开拓更多应用场景

除 AR 微显示产品线外,星钥半导体同时展出 MicroLED 光互连外延片与 CoW(Chip on Wafer)芯片样品。微显示与光互连技术同源,共享硅基 GaN 外延、晶圆加工、混合键合整套制造能力。MicroLED 光互连采用 "Wide and Slow" 并行架构,面向 AI 数据中心短距高速互联、CPO 共封装光学等新兴场景。依托 8 英寸 IDM 平台,公司同步开展光互连器件的工艺验证与迭代,推动 Micro‑LED 技术跨赛道应用拓展。

星钥半导体市场负责人表示:"LEDoS,其实没有想象中那么简单。当前 AR 微显示产业正从 小尺寸实验室走向大尺寸规模化商业落地,仅仅做出样机 Demo 远远不够,真正的挑战来自外延、键合、堆叠等底层制造环节。本次光博会,我们把工艺晶圆和各阶段产品一并呈现,希望让行业看到 IDM 模式下完整的技术链路。特别是,我们基于半导体工艺路线的量产产线已全线打通出货,外延、芯片、键合全流程自主可控、无代工环节。我们将持续迭代多波长单色、双色堆叠产品,稳步推进单片全彩与光互连技术研发,期待和整机、光学、光通信领域的产业链伙伴协同,共同推动国产 MicroLED 技术的商业化进程。

本届光博会期间,星钥半导体团队持续开展技术对接与商务洽谈,欢迎广大行业伙伴莅临展位参观交流。

关于星钥半导体

星钥半导体是专业从事硅基 MicroLED 产品研发、生产、销售的高科技创新公司,于 2024 年 10 月落户武汉市东湖高新技术开发区,已建设完成 8 英寸 MicroLED 研发量产线,并正在建设国际领先的全制程 8/12 英寸 MicroLED 芯片量产制造工厂。 星钥半导体创始核心团队拥有全球规模最大的 8 英寸 GaN 芯片量产领军企业经验,致力于高效率 MicroLED 微显示芯片的研制和量产。产品面向下一代人工智能和消费电子等应用,为增强现实 AR、AI 数据中心光互联、可穿戴设备、微型投影等提供专业解决方案。

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